摘要:
提出一种基于Gabor相位与局部二值模式(local binary patterns, LBP)算子的活动表观模型(active appearance model, AAM)。与基于亮度的AAM相比,改进模型在三个方面提高了算法性能:提供多尺度多方向的Gabor纹理,提高了模型的匹配精度;增强了对外部环境变化(如光照)的鲁棒性;基于LBP的纹理编码去除了大量冗余。实验结果表明该模型能够有效提高模型的匹配精度。
苏亚, 高新波, 王博, 王宇. 基于Gabor相位和局部二值模式的AAM纹理表示[J]. Journal of Systems Engineering and Electronics, 2010, 32(5): 1051-1054.
SU Ya, GAO Xin-bo, WANG Bo, WANG Yu. Gabor phase and LBP based texture representation in AAM[J]. Journal of Systems Engineering and Electronics, 2010, 32(5): 1051-1054.